엔비디아와 지멘스 EDA가 Calibre에 GPU 기반 cuLitho를 통합해 전산 리소그래피를 가속한다고 발표했다. 양사는 전체 칩 광학근접효과보정 작업에서 최대 12배, 핵심 시뮬레이션에서는 검증 데이터 기준 10~17배 속도 향상을 제시했다. 곡선형 패턴과 High-NA EUV에서 커지는 계산 부담을 줄여 설계 완료 전 최적화 반복을 늘리려는 목적이다. 이는 특정 작업과 비교 조건에 대한 업체 측 수치이며, 모든 제조 공정이 같은 비율로 빨라진다는 의미는 아니다.